Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
DOI (Low Temperature Physics):
https://doi.org/10.1063/1.2967505Ключові слова:
тонкие пленки, аморфные металлы, полупроводники, контактная разность потенциалов, удельное электросопротивление.Анотація
Исследовано влияние аморфного Sb-покрытия на удельное сопротивление r аморфных и кристаллических пленок V, Yb и Bi. Для обоих фазовых состояний V и Bi значения r уменьшаются, для Yb - увеличиваются. Влияние покрытия на r ограничивается его толщиной dcov0 = 10-60 нм, зависящей от вида и фазового состояния базисного металла. Увеличение толщины покрытия до dcov > dcov0 не приводит к дальнейшему изменению r. Наблюдаемые изменения r приписываются перемещению части электронов из аморфной сурьмы в Bi и V, а из аморфных и кристаллических пленок Yb - в аморфную сурьму с образованием контактной разности потенциалов между слоями металла и полупроводника. При этом происходит изменение плотности состояний электронов проводимости металла, ответственное за изменение r.Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.

Downloads
Опубліковано
2008-07-03
Як цитувати
(1)
В.М. Кузьменко, Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов, Low Temp. Phys. 34, (2008) [Fiz. Nizk. Temp. 34, 781-789, (2008)] DOI: https://doi.org/10.1063/1.2967505.
Номер
Розділ
Надпровідність, зокрема високотемпературна