Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов

Автор(и)

  • В.М. Кузьменко Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт", Украина ул. Академическая, 1, г. Харьков, 61108, Украина

DOI (Low Temperature Physics):


https://doi.org/10.1063/1.2967505

Ключові слова:

тонкие пленки, аморфные металлы, полупроводники, контактная разность потенциалов, удельное электросопротивление.

Анотація

Исследовано влияние аморфного Sb-покрытия на удельное сопротивление r аморфных и кристаллических пленок V, Yb и Bi. Для обоих фазовых состояний V и Bi значения r уменьшаются, для Yb - увеличиваются. Влияние покрытия на r ограничивается его толщиной dcov0 = 10-60 нм, зависящей от вида и фазового состояния базисного металла. Увеличение толщины покрытия до dcov > dcov0 не приводит к дальнейшему изменению r. Наблюдаемые изменения r приписываются перемещению части электронов из аморфной сурьмы в Bi и V, а из аморфных и кристаллических пленок Yb - в аморфную сурьму с образованием контактной разности потенциалов между слоями металла и полупроводника. При этом происходит изменение плотности состояний электронов проводимости металла, ответственное за изменение r.

Завантаження

Дані завантаження ще не доступні.

Опубліковано

2008-07-03

Як цитувати

(1)
В.М. Кузьменко, Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов, Low Temp. Phys. 34, (2008) [Fiz. Nizk. Temp. 34, 781-789, (2008)] DOI: https://doi.org/10.1063/1.2967505.

Номер

Розділ

Надпровідність, зокрема високотемпературна

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають