Температурная зависимость ширины полосы делокализованных состояний в наноструктурах n-InGaAs/GaAs в режиме квантового эффекта Холла
DOI (Low Temperature Physics):
https://doi.org/10.1063/1.4775752Ключові слова:
квантовый эффект Холла, гипотеза скейлинга, масштаб потенциала.Анотація
Экспериментально исследованы продольное ρxx(B) и холловское ρxy(B) магнитосопротивления в режиме целочисленного квантового эффекта Холла (КЭХ) в наноструктурах n-InGaAs/GaAs с одиночной и двойной квантовыми ямами в диапазоне магнитных полей B = 0–16 Тл и температур T = 0,05–70 К, до и после ИК подсветки. Проведен анализ температурной зависимости ширины переходов плато–плато КЭХ и получены сведения о температурной зависимости ширины полосы делокализованных состояний вблизи середины подзон Ландау в режиме КЭХ.Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.

Downloads
Опубліковано
2012-11-15
Як цитувати
(1)
Ю.Г. Арапов, С.В. Гудина, В.Н. Неверов, С.Г. Новокшонов, А.С. Клепикова, Г.И. Харус, Н.Г. Шелушинина, and М.В. Якунин, Температурная зависимость ширины полосы делокализованных состояний в наноструктурах n-InGaAs/GaAs в режиме квантового эффекта Холла, Low Temp. Phys. 39, (2012) [Fiz. Nizk. Temp. 39, 66-75, (2012)] DOI: https://doi.org/10.1063/1.4775752.
Номер
Розділ
Статті