VUV photolysis of silane with nitric oxide in solid neon - Chou, Sheng-Lung; Chin , Chih-Hao; Ogilvie, J. F.; Wu, Yu-Jong (ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР, 2025)
Представлено результати вакуумно-ультрафіолетового (ВУФ) фотолізу SiH4 і NO у твердому неоні при 3 К. Фотоліз при 130 нм призводить до утворення складного діапазону продуктів, включаючи SiH2 , Si2H6 та різні оксиди кремнію. Крім того, за підтримки квантово-хімічних розрахунків та експериментів із заміщенням D-ізотопом попередньо іденти фіковано новий продукт, H2SiN(H)O, як проміжну речовину реакції SiH3 з NO. Ці знахідки дають нове уявлення про ВУФ фотохімію SiH4 і NO в твердій матриці та пропонують цінну інформацію для розуміння хімії горіння на основі кремнію та астрохімії.