Особенности температурных зависимостей захваченного магнитного потока в керамиках Y-ВТСП - Суханов, А. А.; Омельченко, В. И. (ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР, 2001)
Изучены температурные зависимости захваченного магнитного поля (ЗМП) Ht (T в керамических системах Y-ВТСП. Для захвата после охлаждения в поле зависимости Ht (T совпадают c Ht (Tt ) (Tt - температуры захвата): Ht монотонно уменьшается с ростом температуры, а в слабых полях быстро выходит на насыщение при понижении Tt. В случае захвата импульсом магнитного поля после охлаждения в нулевом поле зависимости Ht (Tt )имеют максимум, а Ht монотонно уменьшается с ростом T, причем скорость этого пpоцесса увеличивается при уменьшении инициирующего поля H, а температура исчезновения ЗМП понижается при уменьшении Tt и H. Проведено обсуждение полученных результатов и показано, что наблюдаемые особенности температурных зависимостей захваченного магнитного потока в Y-ВТСП не находят объяснения в рамках модели Бина, но удовлетвоpительно описываются моделью захвата магнитного потока в сверхпроводящих контурах.