Aldiyarov, A., D. Sokolov, A. Akylbayeva, Nurmukan А., і N. Tokmoldin. 2020. «On Thermal Stability of Cryovacuum Deposited CH₄+H₂O Films». ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР 46 (11). Харків, Україна:1318-22. https://doi.org/10.1063/10.0002156.