Aldiyarov, A., Sokolov, D., Akylbayeva, A., Nurmukan А. і Tokmoldin, N. (2020) «On thermal stability of cryovacuum deposited CH₄+H₂O films», ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР. Харків, Україна, 46(11), с. 1318–1322. doi: 10.1063/10.0002156.