A. Aldiyarov, D. Sokolov, A. Akylbayeva, Nurmukan А., і N. Tokmoldin, «On thermal stability of cryovacuum deposited CH₄+H₂O films», Fiz. Nizk. Temp., вип. 46, вип. 11, с. 1318–1322, Вер 2020.