Aldiyarov, A., D. Sokolov, A. Akylbayeva, Nurmukan А., і N. Tokmoldin. «On Thermal Stability of Cryovacuum Deposited CH₄+H₂O Films». ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР, вип. 46, вип. 11, Вересень 2020, с. 1318-22, doi:10.1063/10.0002156.