Aldiyarov, A., D. Sokolov, A. Akylbayeva, Nurmukan А., і N. Tokmoldin. «On Thermal Stability of Cryovacuum Deposited CH₄+H₂O Films». ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР 46, no. 11 (Вересень 21, 2020): 1318–1322. дата звернення Листопад 10, 2025. http://80.92.230.95/index.php/fnt/article/view/f46-1318e.