Aldiyarov A, Sokolov D, Akylbayeva A, Nurmukan А, Tokmoldin N. On thermal stability of cryovacuum deposited CH₄+H₂O films. Fiz. Nizk. Temp. [інтернет]. 21, Вересень 2020 [цит. за 10, Листопад 2025];46(11):1318-22. доступний у: http://80.92.230.95/index.php/fnt/article/view/f46-1318e